测量电子显微镜的碳厚度

　　简化了碳绳的脉冲挥发，简化了涂层过程

　　在电子显微镜样品涂层中，石英晶片可以控制涂层厚度。这些晶片以一定数量的时间振动(新晶体约为6兆赫)。通过测量涂层前后的频率、涂层材料的比例和石英的几何位置，可以计算出应用的厚度。

　　由软件控制的脉冲挥发

　　然而，这种测量碳膜厚度的方法也有一些缺点。碳挥发产生的热量和光源会影响晶片振荡的次数。经过一段时间后，只有在数值稳定后，才能获得合理的膜厚度测量结果。图1和图2显示了随着时间的推移，蒸发过程影响晶片频率的过程。Flash挥发用全功率燃烧整个碳绳。通过一个短的特定电压发生脉冲蒸发，沉积少量碳材料。Flash挥发可以获得较厚的膜层，但结果只受碳绳的影响。Flash在这个过程中，样品会产生大量的热量。当使用脉冲挥发时，每个脉冲的功率、脉冲时间和脉冲量都会受到膜厚的影响。相比之下Flash脉冲挥发产生的热量较少。

　　由软件控制的碳绳脉冲蒸发是一种创新的方法(通过LeicaMicrosystems为LeicaEMACE涂层机的新系列开发)，它简化了以前复杂的过程。在每个特定的短脉冲之后，测量每个脉冲之后的膜厚度。信息将反馈到过程控制，然后执行另一个脉冲，或成功完成涂层。该方法首次满足了高精度的要求，创建了一个1或2纳米厚的层析，可以完美地复制，无需经验。

　　测量无晶片膜厚度

　　如果要评估碳膜的厚度，但没有晶片检测系统，可以使用简单的视觉测试方法。这也是一种非常有用的参考检测方法。

　　镀金板或铝铂上的碳挥发性碳会受到其厚度的影响，显示出明显的颜色差异(见下面的刻度)。通过磁控溅射电镀约50纳米的金，或直到它看起来完全金黄色。图片显示了涂有不同厚度碳的金色盖板。从左到右：无镀金，然后从10纳米碳膜开始，逐渐增加5纳米到40纳米碳涂层。

　　如果没有晶片检测系统，这种简单的检测方法也可以有效，但显然不如石英检测系统准确。涂层厚度在涂层过程结束后进行评估。因此，它不能在涂层过程中提供反馈。显然，这是一种粗略的评估方法，其准确性是/-几个纳米。它不能提供纳米其他沉积碳层的准确信息，也不准确。综合脉冲测量可以保持精度0.5纳米的范围，同时保证再现性。